从公式Dose=照度x时间，可以看出： 如果想改变曝光剂量，要么改变照度，要么改变时间。但是在实际曝光时，听的最多的是曝光剂量和曝光时间……
从公式Dose=照度x时间，可以看出：
如果想改变曝光剂量，要么改变照度，要么改变时间。但是在实际曝光时，听的最多的是曝光剂量和曝光时间，对于照度的更改貌似涉及的不多，为什么？
照度通常受光源类型，投影光学系统，调制器等影响，这些因素需要通过精确的校准来确保达到理想的曝光条件。设计得非常稳定，以保证照度的一致性。因此，一旦设定了照度，就尽可能保持不变，以减少光刻工序中的一个变量。而改变曝光时间比较容易控制，因此工程师常通过修改曝光时间来改变曝光的剂量。
过曝或曝光不足会有什么影响？
过曝指的是给予光刻胶超出标准的剂量，曝光不足则指的是给予光刻胶低于标准的剂量。正胶与负胶与光的反应机理不同，正胶在曝光后容易溶解在显影液中，而负胶在曝光后发生交联，不溶于显影液。因此，当过曝或曝光不足时，正胶与负胶的现象是不同的。
正胶过曝
被曝光部分的光刻胶会溶解得更多，开窗口的大小会变大，导致图案的线宽异于预期。由于过多的溶解，细小的图案会丢失或线条边缘不规则的形状等。
负胶过曝曝光过量导致更多的光刻胶变得难溶解，导致开窗口的大小会变小，与设计的图案尺寸有差别。过多的曝光导致光刻胶过度交联，从而在显影过程中难以完全溶解，会有残胶。
曝光不足则与之相反。
曝光剂量的均匀性
在理想情况下，我们希望整个晶圆在曝光过程中能够接收到完全均匀的紫外光剂量，以确保光刻胶在整个晶圆上得到一致的交联，实际的曝光过程中往往存在剂量分布的不均匀性，这直接影响到器件性能的均匀性和生产过程的稳定性。因此精确地控制曝光剂量的分布，减小因光源、光学系统等引起的剂量误差，对于维持光刻工序的稳定十分重要。
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